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必知:不同基體電子元(yuán)件的鍍金方法
1.銅、黃銅鍍金
以銅、黃銅為基體的電子元件鍍金(jīn)是(shì)比其他金屬基體簡(jiǎn)單(dān)。鍍金所需(xū)的鍍金液中含中等濃度(dù)金,隻有(yǒu)金的濃度合適(shì)才能得到導電好外觀美(měi)麗的(de)鍍層(céng)。
具體步(bù)驟(zhòu)如(rú)下:首先使用汽油或者四氯化碳等有機溶劑吸去電子元件上的油性汙漬,如果單純(chún)衝洗或浸泡(pào)去油漬效果不好;其次完成後利用超聲波化學除油,再進行熱(rè)水、冷水、酸洗(硫酸、硝酸、水的混合液(yè))、浸泡碳(tàn)酸鈉水溶(róng)液。
鍍金所用的鍍金液一般成分是氰化金鉀(jiǎ)、碳酸鉀等,鍍(dù)金(jīn)完成後(hòu)需要在 70 ~ 80℃的(de)純淨水中超聲波攪動清洗(xǐ)(純淨水的電導率應≤ 10us/cm),清洗時間不少於 10 分鍾,最後幹燥 。
2 .磷青銅鍍金
生活中所用(yòng)的插線板上的插頭、插座一般都是磷青銅元件,之前這種基體金屬進行鍍(dù)金需要預鍍銅、再鍍金,比銅、黃銅基體的電子元件鍍金(jīn)工序複雜,鍍金層質量也不易得到(dào)保(bǎo)證。
經過多年研究試驗,其鍍金工序簡單且金鍍層質量可靠很多(duō),先用汽油除去電子元件上的油漬(zì)汙漬(zì),再(zài)超聲波化學除油,然後進行熱水(shuǐ)、冷水、鹽酸酸洗,再用(yòng)含氰化金鉀、碳酸鉀的鍍金液進行鍍金。
3 .矽錳青銅鍍(dù)金
以矽錳青銅為(wéi)基體金屬的電子(zǐ)元件進行鍍金(jīn),所(suǒ)需工序跟上述金屬基體無太大差別,隻是浸泡溶液為氫氟酸,氫氟酸可(kě)以去除酸洗後產生的矽化合(hé)物,這種矽化合物是黑色的,附著在元件表麵,影響電鍍金的鍍層(céng)結合(hé)力(lì)。
4 .鎳及鎳合金鍍金
一些微(wēi)小(xiǎo)的電子元件如電子(zǐ)管等一般是鎳及鎳合(hé)金(jīn),如果想要得到優異的(de)導電(diàn)性能就需要進行鍍金。鍍金工(gōng)序比較簡單,基本同銅、黃(huáng)銅金屬基體的電子元件。鎳及(jí)鎳合金鍍金電鍍前使用鹽酸酸洗獲得的金(jīn)鍍層結(jié)合力較好。
2 電(diàn)鍍金和化學鍍金(jīn)
1 .電鍍金
雷達上的金鍍層、各種(zhǒng)引線鍵合的鍵合麵(miàn)等(děng)都是電(diàn)鍍金的應用。電鍍金的鍍金陽極一般是鉑金鈦網,陰極是矽片,當陽極、陰極連(lián)上電源,氰化金鉀鍍液就會產生電流進而形成電場,陽極釋放電子,陰極接收電子,陰極附近的絡合態金離子和電(diàn)子結合以金原(yuán)子的形式沉積在陰極表麵,逐漸在矽片表麵形成一層均勻、致密的金,這(zhè)就是電鍍金的原理。
電鍍金使用的電鍍(dù)液一般有氰化物和非氰化物兩種,但是氰化物有劇毒,使用不方麵且不易不管理,所以現在多使用微氰化物(wù)體係,毒性(xìng)小且(qiě)耐磨。電鍍金的設備包括水平噴流式杯鍍和垂直(zhí)掛鍍兩種。
杯鍍式的電鍍比掛鍍式的電鍍容易產生氣泡,氣泡會影響鍍層的均勻性(xìng)。電鍍工藝對鍍層的均勻度、粗糙度、硬度等都會產生重要的(de)影響。電鍍工藝(yì)中比較重要的(de)參數有電流密度、溫度、pH、金質(zhì)量(liàng)濃度、電鍍(dù)時(shí)間等。電流密度增加,金沉積速度加(jiā)快,鍍層(céng)較為粗(cū)糙;鍍液溫度高於 80℃會導致(zhì)鍍(dù)層硬度減弱;pH 高於 7 會導致鍍層粗(cū)糙;金濃度也會影(yǐng)響金的沉積速度。隻要控(kòng)製好電鍍(dù)金的各種(zhǒng)參數就可以獲得性能優良的鍍層,滿足電子元件製造業的需求 。
2. 化學鍍金
化學鍍金可以分為置換型、還原型,這(zhè)是依(yī)據鍍金液中是否含有還原劑來(lái)分型的。置換鍍金的原理是利用金和基體金(jīn)屬的電位差,電位差的產生就會(huì)使金由鍍液沉積到基體表麵,基(jī)體也會溶解,基體表麵金屬全部溶解則反映停止。
還原型鍍金的原理目前並(bìng)沒有很明確,有些學(xué)者認為是還原(yuán)型鍍金同時存在(zài)置換型鍍金,有些學者認為發生還(hái)原(yuán)型鍍金需要有具有催化能力的基體金屬。
化學鍍金的鍍(dù)金液(yè)由金鹽、配位(wèi)劑、還原劑、穩定劑組成,有的可能還有表麵改(gǎi)善劑、表麵活性劑。化學鍍金的(de)鍍液也主要是以亞硫酸鹽、檸檬酸鹽等體係的無氰鍍液,無氰工(gōng)藝的發展也越(yuè)來越成熟。
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