請問真空電鍍加工的方法是什麽？

 真空電鍍加工是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表麵處理技術等眾多方麵有著十分廣泛的應用。為了讓大家更詳細的了解真（zhēn）空鍍（dù）膜的應用，今天小編詳細為大家（jiā）介紹真空電鍍加工（gōng）的主要幾種方法，希望對（duì）大家有用!

真空電（diàn）鍍應用，簡單地理解就是在真空環（huán）境下，利用（yòng）蒸鍍、濺射以及隨後（hòu）凝結的辦法，在金屬、玻璃（lí）、陶瓷、半導體以及塑料件等物體（tǐ）上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳（chuán）統電鍍方式，真（zhēn）空電鍍應用屬於一種幹式電鍍，它的主要方法（fǎ）包括以下（xià）幾種：

真空蒸鍍。其（qí）原理是在真空條件下，用蒸發（fā）器加熱帶蒸發物質，使其氣化或（huò）升華，蒸發（fā）離子流（liú）直接射向基片，並在基片上沉積析出固（gù）態薄膜的技術。

濺射鍍膜。濺射鍍（dù）膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電（diàn），激發（fā）輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其（qí）射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層（céng）。

離子鍍膜。即幹式螺杆真空泵廠家已經介紹（shào）過的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜（mó）技術（shù）基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利（lì）用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質（zhì）(膜材)部分離化，並在離子轟擊下，將蒸（zhēng）發物或其反應物沉（chén）積在基片表麵。在膜的（de）形成過程中，基片始終受到高（gāo）能（néng）粒子的轟擊，十分清潔（jié）。

真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利（lì）用物理氣相沉積的（de）方（fāng）法在柔性基體上連續鍍膜（mó）的技術，以（yǐ）實現柔性（xìng）基體的一些功能性、裝飾性屬（shǔ）性。

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