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為什麽同等情況下掛鍍能鍍好而滾鍍鍍不好(或很難鍍好)?

發布日期(qī):2019-3-11

 想必不少人(rén)有過這樣的經曆,同樣的(de)鍍液(yè),同樣的(de)鍍件,掛鍍能鍍好(hǎo)而滾(gǔn)鍍卻鍍不好或很難(nán)鍍(dù)好,為什麽呢?這與滾鍍的特殊性是(shì)分不開的。

 

1、混合周期的影響

 

滾鍍不可避免地會受到零件混合周期的(de)影響。混(hún)合(hé)周期指滾鍍時零件從內層翻到表層,然後又從表層翻回內層所需要的時間(可參考(kǎo)往期有關混合周期內容的文章(zhāng))。而掛鍍零件是單獨分裝的,不存在混合周期的(de)影響。所以,對於某些鍍件基體與鍍液“相克”的情況,掛鍍一般沒有問題,而滾鍍常常鍍不好或很(hěn)難(nán)鍍好。可以說,混合周期是影響滾、掛鍍鍍層質量或施鍍難度的主(zhǔ)要因素。

例如,釹鐵硼材質化學活性較(jiào)強(qiáng),若采用簡單鹽(yán)鍍液(如(rú)酸性鍍鋅、硫酸鹽鍍鎳等(děng))施鍍,存在基體(tǐ)表麵氧化(則影響結合力)、基體遭受腐蝕(shí)、汙染鍍(dù)液等風險。此即屬於鍍(dù)件基體與鍍液“相(xiàng)克”的情況。盡管如此(cǐ),釹鐵硼掛鍍(dù)基本沒有什麽障礙,電鍍開始後電流直接(jiē)、無(wú)遮(zhē)擋地(dì)施加在鍍件上,上鍍速度大於表麵氧化速度,鍍層質量得到保證。可以說,釹鐵硼掛鍍與普通零件掛鍍差異不大。但釹鐵(tiě)硼(péng)滾鍍就不是這樣了,使用簡單鹽鍍液,由於混合周期的存在(zài),當零件位於(yú)內層時因電化學反應基本停止而發生基體表麵氧化。所以,為保證鍍層(céng)質量,釹(nǚ)鐵硼滾鍍會采(cǎi)取一係列措施,如(預(yù)鍍(dù)或直接鍍時)盡量選用鍍速快(kuài)的溶液、嚴格(gé)滾筒尺(chǐ)寸、增加(jiā)滾(gǔn)筒透水性、工序間不間斷操作、大電流(liú)衝擊(jī)等(děng)(可參考往期有關釹鐵硼零件(jiàn)滾鍍內容的文章),這相應增加了釹鐵硼(péng)滾鍍的難度。

鋼件或鋅合金件直接鍍無氰堿銅,滾鍍比掛鍍難度大也是這個道理,即滾鍍因混合周期的存在比(bǐ)掛鍍更容易發生“置換鍍(dù)”,則鍍層與基體的結合力存在更大的風險。所以,鋼件或鋅合金件滾(gǔn)鍍無氰堿銅,最好先鍍底(dǐ)鎳,不用太厚,薄薄的一層即可,則難度大大降低(dī)。而掛鍍(可能)可以不用。

滾鍍酸銅難度(dù)較大,生產中應用也不多(duō),其原因未必(bì)在於酸銅工藝本身,更主要的是由於其對底鍍層要求較高,底鍍層做不好對(duì)後續鍍銅產生較大的影響。滾鍍(dù)酸銅要求底鍍層須達到一定的(de)厚度、均勻度、深度等(děng),以起到基體與(yǔ)酸銅(tóng)溶液較好的“隔(gé)離”作用。否則滾鍍過程中當零件位於內層時,因電化學反應基本停止基(jī)體可能會承受較大(dà)的酸銅(tóng)溶液腐蝕的風險。滾鍍酸銅也是受混合周期影響較大的一個比較典型的例子。而掛鍍酸銅對底鍍層基本不做刻意要求。

釹鐵硼滾鍍鎳-銅-鎳(niè)也存在這樣的問題。釹鐵硼滾鍍(dù)底鎳也是為了“隔離”基體與後續的焦銅溶液,否(fǒu)則因釹(nǚ)鐵硼基體化學活(huó)性較強,必然會遭受焦銅溶液的氧化腐蝕(shí)。所以(yǐ),釹鐵硼底鎳層也要求一定的厚度、均勻度、深度等。但底鎳層厚的話又會影響(xiǎng)磁體的熱減磁,這是一個矛盾。可以考(kǎo)慮鍍兩次焦銅或選用性能更好的無氰堿銅工藝,墨(mò)守成規難以使產品質量得到提升。

一種含鋅量較高的小零件鍍亮鎳,不鍍底銅(tóng),掛鍍可得到質量合格(gé)的鍍層,滾鍍則鍍層(céng)發黑,且滾鍍過程中零件表麵伴有一定量的氣泡產(chǎn)生。這是因為滾鍍時受混合周期的影響,零件表麵受到了(le)亮鎳溶液的置換腐蝕,從而影響了鍍層質量。而掛(guà)鍍時零件單獨(dú)分裝懸掛,其混合周期可視為零,則零件表麵電流(liú)導(dǎo)通後會在最短的時(shí)間內上鍍(dù),此時零件受腐蝕程度最小,因(yīn)而可獲得質量合(hé)格的鍍層。

 

2、電流密度的影響

 

滾鍍因受瞬時電流密度的製約(可參考往期有關瞬時電流密(mì)度內容的文章),給定的平均(jun1)電流密度上限不(bú)易提高,因此常常使用比掛鍍小或小得多的電流密度。電流密度小,給滾鍍帶來了相比於掛鍍更多的(de)麻煩。

比如,鍍液中(zhōng)電(diàn)位較正的雜質金(jīn)屬(如銅、鉛等)容易在電流較小時優先於主金屬離子而沉積。滾(gǔn)鍍使用的電流較小,銅、鉛等雜質極易沉積,從而對鍍層質量產生影響(xiǎng)。氯化鉀滾鍍鋅,當鍍(dù)液中含鉛離子時(shí),輕則零件低(dī)電流區鍍層不亮或不合格,重則零件出槽僅(jǐn)高電流區(qū)有(yǒu)亮度,出光或鈍化後消失(shī)。當鍍(dù)液中有銅離子時(shí),零件出槽(cáo)鍍層亮度尚可,出光(guāng)或鈍化後發(fā)黑。但同等情況下(xià),掛鍍銅、鉛等離子(zǐ)的影響就會小得多(duō)。這是因為掛鍍(dù)使用(yòng)的電流較(jiào)大,這時鍍層沉積以電位較負的鋅為主,而電位較正的銅、鉛等在陰極沉(chén)積的概率降低,則對鍍層產(chǎn)生的影響減小。

還有(yǒu),滾鍍由於電流(liú)相對較小,零件低電流區電流更小,則複雜零件(jiàn)的深凹部位往往質量不佳或不合格(即深(shēn)鍍能力不好)。比(bǐ)如,一種油桶桶蓋鍍鋅,掛鍍基本沒有障(zhàng)礙,但滾鍍在桶麵的(de)兩個“凹兒”內得到的是黑或深灰的鍍層(céng)。一種內螺紋膨脹螺栓鍍鋅(xīn),掛鍍可將全部螺紋鍍覆,而滾鍍不能。電流密度的差(chà)異,造成了滾、掛鍍鍍層質量(liàng)的差異。提高滾鍍使用的電流,是減小這種差異的關鍵所在。而提高滾鍍(dù)使用的電流,需要從減小孔眼處瞬(shùn)時電流密度或提高瞬時電流密度上限入手(可參考往期有(yǒu)關瞬時(shí)電流密度內容的文章)。

 

3、滾筒開孔的影響

 

滾筒開孔阻(zǔ)礙了溶液內部的導電離子向陰極(jí)運行,導致滾筒內導電離子濃度較低,因(yīn)此滾鍍件的鍍層均勻性會比掛鍍差,則一般滾鍍難以滿(mǎn)足高精度零件的質量(liàng)要求。另外,滾鍍合金時,由於滾筒開(kāi)孔的屏(píng)蔽作用(yòng),滾(gǔn)筒內外(wài)溶液中的鍍(dù)液組分(尤其(qí)合金比(bǐ)例)差別可能較大,則鍍(dù)出的產品在鍍層合金成分、外觀等方麵(miàn)可(kě)能差別較大。比如,滾鍍鋅鎳合金鍍層中可能達不到要求(或預期)的鎳(niè)含量(則(zé)鍍(dù)層耐蝕性打折扣),滾鍍仿金鍍層外觀不佳有時做“補色”處理等。而掛鍍合(hé)金則較少出現此類問(wèn)題。改進滾筒開孔以增加滾筒透水(shuǐ)性,是解(jiě)決或改善問題的關鍵(可參考往期有關(guān)滾筒開(kāi)孔內容的文章)。

 

所以,很多時候掛鍍能鍍好而滾(gǔn)鍍卻未必能鍍好(或(huò)很難鍍好(hǎo)),這(zhè)需要根據情況找出鍍不好或很難鍍好的原因,然後對症下藥,從而使(shǐ)問題得到解決或改善。

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